勻膠旋涂?jī)x的勻膠過(guò)程包括滴膠，高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個(gè)步驟。

1、滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。

2、勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過(guò)程中重要的因素?；霓D(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的*湍動(dòng)和基片與空氣的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥（溶劑揮發(fā)）速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā)，粘度越來(lái)越大，直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動(dòng)。到這個(gè)點(diǎn)上，膠膜厚度不會(huì)隨勻膠時(shí)間延長(zhǎng)而變薄。

3、勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì)對(duì)膠膜的性能產(chǎn)生影響。因?yàn)樵诨D(zhuǎn)的第一階段，光刻膠就開始干燥（溶劑揮發(fā)）了。所以準(zhǔn)確控制加速度很重要。

4、勻膠過(guò)程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質(zhì)，而且還取決于勻膠過(guò)程中基片周圍的空氣狀況。光刻膠的干燥速度與此相似，也受周圍環(huán)境條件的影響。勻膠的時(shí)候，減小基片上面的空氣的流動(dòng)，以及因空氣流動(dòng)引起的湍流，或者至少保持穩(wěn)定也是十分重要的。

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